机译:透明烷基ky盐作为ArF准分子激光光刻的光致产酸剂
机译:光偶联发电机 - 聚合物相互作用对极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂的量子产率
机译:新型化学放大型抗蚀剂,结合了阴离子光酸产生剂官能团,可用于低于50 nm的半节距光刻
机译:用于ARF准分子激光光刻的正化学放大抗蚀剂由新型透明光酸发生器和脂环族三元共聚物组成
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:含有ARF准分子激光光刻的化学放大的抗蚀剂。
机译:湿法开发的双层抗蚀剂,用于193纳米准分子激光光刻