机译:新型化学放大型抗蚀剂,结合了阴离子光酸产生剂官能团,可用于低于50 nm的半节距光刻
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机译:光致产酸剂在化学放大抗蚀剂中用于157 nm光刻的效率
机译:光酸产生剂掺入聚合物主链中对193 nm化学放大的抗蚀剂行为和光刻性能的影响
机译:用晶圆光刻测定技术评价X射线光刻化学放大抗蚀剂的抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:多功能丝心生物抗蚀剂的水多光子光刻
机译:新的阴离子光酸发电机结合的聚合物抵抗EUV光刻