首页> 中文会议>2011第十二届中国辐射固化年会 >基于双光子染料敏化产酸的化学增幅型正性光刻胶及其双光子微加工

基于双光子染料敏化产酸的化学增幅型正性光刻胶及其双光子微加工

摘要

本工作合成了以三苯胺为电子给体的双光子敏化染料,并将染料和光生酸剂组成双光子敏化产酸体系.系统的研究了染料的光化学和光物理性质,讨论了染料经光致电子转移过程敏化产酸剂产酸的机理,并测定了各敏化产酸体系在溶液中的产酸效果.利用优选出的敏化产酸体系制备了化学增幅型正性光刻胶,用衰减全反射红外谱研究了光刻胶膜中酸催化过程。将光刻胶应用于飞秒激光双光子微加工,评估了加工性能。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号