化学增幅型正性光刻胶、制备方法及其在双光子精细加工中的应用

摘要

本发明公开了一种化学增幅型正性光刻胶，包括如下重量份数的原料：光敏染料0.0001～2份；光生酸剂0.005～10份；酸降解型树脂5～80份；溶解抑制剂0～60份；有机溶剂20～90份。本发明还公开了上述光刻胶的制备方法及应用。本发明的特点是敏化产酸体系组成简单，配制方便，在双光子激发下产酸效果确实可靠；敏化剂双光子吸收截面大，合成简单，成本低廉；以此敏化产酸体系制备出的光刻胶具有很高的加工分辨率，和很低的加工能量阈值。