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Development of Novel Materials for 193-nm Dry and Immersion Lithography

机译：开发193-NM干燥和浸入式光刻的新型材料

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Takashi Sasaki; Naoko Shirota; Shu-Zhong Wang; Yoko Takebe; Osamu Yokokoji;
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年度 2006
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1. Development of Novel Materials for 193-nm Dry and Immersion Lithography [J] . Takashi Sasaki, Naoko Shirota, Shu-Zhong Wang Journal of Photopolymer Science and Technology . 2006,第5期

机译：用于193 nm干式和浸没式光刻的新型材料的开发
2. Development of new resist materials for 193-nm dry and immersion lithography [J] . Yoko Takebe, Takashi Sasaki, Naoko Shirota, Microelectronic Engineering . 2006,第4a9期

机译：开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
3. Development of Materials and Processes for Non-top Coat Immersion Lithography [J] . Katsutoshi Kobayashi, Kotaro Sho, Hirokazu Kato Journal of Photopolymer Science and Technology . 2009,第5期

机译：非顶涂层浸没光刻技术的材料和工艺的发展
4. Development of new resist materials for 193-nm dry and immersion lithography [C] . Takashi Sasaki, Naoko Shirota, Yoko Takebe, Advances in Resist Technology and Processing XXIII pt.1 . 2006

机译：开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
5. Process Development of Nanoimprint Lithography for Selective Area Growth of III-V Materials on Silicon [D] . Makoutz, Emily. 2017

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6. Technological Development of Brewing in Domestic Refrigerator Using Freeze-Dried Raw Materials [O] . Angelika-Ioanna Gialleli, Vassilios Ganatsios, Antonia Terpou, 2017

机译：冻干原料酿造家用冰箱的技术发展
7. Development of Materials and Processes for Non-top Coat Immersion Lithography [O] . Katsutoshi Kobayashi, Kotaro Sho, Hirokazu Kato, 2009

机译：非顶涂层浸入光刻的材料和工艺的开发
8. All-Dry Resist Processes for 193-NM Lithography [R] . Horn, M. W., Maxwell, B. E., Kunz, R. R., 1995

机译：193-Nm光刻的全干抗蚀剂工艺

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