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李献杰;
中国电子学会;
选择腐蚀;
机译:两步栅极凹陷过程结合了选择性湿法蚀刻和数字湿法蚀刻,用于Inalas / InGaAs基于INP的垫圈
机译:用于InP HEMT的新型高均匀性,高可再现性,非选择性湿法数字栅极凹槽蚀刻工艺
机译:通过湿法化学蚀刻和电子束光刻在InP上形成非常细的波纹
机译:结合激光点焊和湿法化学腐蚀的无面罩选择性发射技术的新方法
机译:高性能半导体器件的选择性湿法蚀刻和腐蚀工艺的基础研究。
机译:电子废物中的铜和锑回收通过湿法冶金和电化学技术
机译:在INP(001),INP(111)B和INP(011)表面上生长的平面内INA的选择性区域化学束外延一维通道
机译:推进电化学腐蚀科学与技术的议程。电化学腐蚀小组的报告
机译:化学侵蚀,选择性或非选择性化学腐蚀的方法,以及半导体片,尤其是汽车中的硅片的化学清洁
机译:在高温下以BCl3为基的刻蚀化学腐蚀对Si3N4具有高选择性的SiO2以及腐蚀对SiO2具有高选择性的金属氧化物
机译:选择性或非选择性化学腐蚀的方法以及化学清洁汽车中pa硅中的半固态薄片的方法
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