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王晓燕; 王晓亮; 胡国新; 王保柱; 李建平; 肖红领; 王军喜; 曾一平; 李晋闽;
中国电子学会;
MOCVD; 铝镓氮薄膜; 透射谱; SEM; 金属有机物化学气相沉积; 外延生长; 晶体质量;
机译:MOCVD生长的高Al含量AlGaN晶体管的成分渐变接触层设计
机译:直接在反应离子刻蚀处理过的GaN表面上进行AlGaN的金属有机气相外延生长,以制备具有高电子迁移率(〜1500cm〜2V〜(-1)s〜(-1)的AlGaN / GaN异质结构:反应离子刻蚀的影响-损坏的层去除
机译:Lg = 100 nm T形栅极AlGaN / GaN HEMT,通过MOCVD在高掺杂n + -GaN层具有非平面源/漏再生长的Si衬底上
机译:MOCVD生长的高Al组分AlGaN薄膜的数值模拟
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:通过MOCVD掺杂高Al含量的AlGaN
机译:用于UV光电探测器应用的GaN,alN和alGaN的mOCVD生长。
机译:p型AlGaN半导体层,基于AlGaN的半导体发光元件,基于AlGaN的半导体光接收元件以及形成p型AlGaN半导体层的方法
机译:AlGaN气相沉积方法和通过AlGaN气相沉积方法制造的AlGaN晶体厚膜基板
机译:GaN / AlGaN /或AlGaN / AlGaN量子阱结构的形成方法
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