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机译:一氧化硅和氧化铝层产生真空蒸发覆盖光学零件的方法
公开/公告号DE000001209256A
专利类型
公开/公告日1966-01-20
原文格式PDF
申请/专利权人 BARR & STROUD LTD;
申请/专利号DEB0050328A
发明设计人
申请日1958-09-13
分类号
国家 DE
入库时间 2022-08-23 15:05:03
机译: 一种通过真空蒸发覆盖光学玻璃片的方法以及由单氧化硅生产的氧化铝层的方法
机译: 在铝和铝合金上阳极产生的氧化物层进行电解着色的方法
机译: 通过真空蒸发或阴极溅射工艺在光学元件上施加反射增加层的情况下,精确确定层厚度的方法