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Defect test method and apparatus for gray-tone mask and defect test method and apparatus for photo mask

机译:灰阶掩模的缺陷测试方法和装置以及光掩模的缺陷测试方法和装置

摘要

PURPOSE: A method and a device for inspecting defects of a gray tone mask and a method and a device for inspecting defects of a photomask are provided to guarantee the transmissivity of the gray tone part of the gray tone mask and carry out the inspection of the micro pattern of the photomask with a high precision. CONSTITUTION: A method for inspecting defects of a dray tone mask includes the steps of using transmissivity signals(7) obtained by scanning patterns in the mask, setting threshold values(8a,8b) of the transmissivity defect in the gray tone part with respect to the transmissivity signal, and determining the defect of the transmissivity in the gray tone part if the transmissivity signal value exceeds the threshold values.
机译:目的:提供了一种用于检查灰阶掩模的缺陷的方法和装置以及一种用于检测光掩模的缺陷的方法和装置,以确保灰阶掩模的灰阶部分的透射率并进行灰阶掩模的检查。高精度的光掩模微图案。构成:检查大板色调掩模缺陷的方法包括以下步骤:使用通过扫描掩模中的图案获得的透射率信号(7),相对于灰阶部分设置透射率缺陷的阈值(8a,8b)透射率信号,如果透射率信号值超过阈值,则确定灰色调部分的透射率缺陷。

著录项

  • 公开/公告号KR20020025844A

    专利类型

  • 公开/公告日2002-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOYA CORPORATION;

    申请/专利号KR20010061014

  • 发明设计人 NAKANISHI KAJUHIKO;

    申请日2001-09-29

  • 分类号G02F1/13;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 00:31:15

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