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1.
EUV Pellicle Development for Mask Defect Control
机译:
用于掩膜缺陷控制的EUV薄膜开发
作者:
Yashesh A. Shroff
;
Michael Goldstein
;
Bryan Rice
;
Sang H. Lee
;
K. V. Ravi
;
Daniel Tanzil
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV;
pellicle;
reticle defect mitigation;
2.
Investigation of the Current Resolution Limits of Advanced Extreme Ultraviolet (EUV) Resists
机译:
研究高级极紫外(EUV)抗蚀剂的当前分辨率极限
作者:
Patrick P. Naulleau
;
Clemens Rammeloo
;
Jason P. Cain
;
Kim Dean
;
Paul Denham
;
Kenneth A. Goldberg
;
Brian Hoef
;
Bruno La Fontaine
;
Adam R. Pawloski
;
Carl Larson
;
Greg Wallraff
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
photoresist;
resolution;
3.
Multi-level Step and Flash Imprint Lithography for Direct Patterning of Dielectrics
机译:
用于电介质直接构图的多级台阶和Flash压印光刻
作者:
Frank Palmieri
;
Michael D. Stewart
;
Jeff Wetzel
;
Jianjun Hao
;
Yukio Nishimura
;
Kane Jen
;
Colm Flannery
;
Bin Li
;
Huang-Lin Chao
;
Soo Young
;
Woon Chun Kim
;
Paul S. Ho
;
C. Grant Willson
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
SFIL;
dual damascene;
dielectric;
ILD;
interconnect;
nanoimprint lithography;
4.
Increasing effective resolution through surface conditioners for 1x imprint templates, and photo mask applications beyond 65nm
机译:
通过用于1x压印模板的表面调节剂和65nm以上的光掩模应用来提高有效分辨率
作者:
Kosta S. Selinidis
;
John G. Maltabes
;
Madhukar B. Rao
;
Peng Zhang
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
pattern collapse;
surface conditioner;
surfactant;
photo mask;
imprint template;
5.
Model of Ru surface oxidation for the lifetime scaling of EUVL projection optics mirror
机译:
Ru表面氧化模型用于EUVL投影光学镜的寿命缩放
作者:
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
6.
Microano lithography realized by chemical printing
机译:
通过化学印刷实现微/纳米光刻
作者:
Peng Yao
;
Garrett J. Schneider
;
Janusz Murakowski
;
Maciej Murakowski
;
Dennis W. Prather
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
7.
Modeling methodologies and defect printability maps for buried defects in EUV mask blanks
机译:
EUV掩模毛坯中掩埋缺陷的建模方法和缺陷可印刷性图
作者:
Michael C. Lam
;
rew R. Neureuther
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV;
buried defects;
defective multilayers;
mask blanks;
fast simulation methods;
defect inspection;
ray tracing;
FDTD;
numerical dispersion;
8.
LPP EUV Source Development for HVM
机译:
用于HVM的LPP EUV源开发
作者:
Bjoern A. M. Hansson
;
Igor V. Fomenkov
;
Norbert R. Boewering
;
Alex I. Ershov
;
William N. Partlo
;
David W. Myers
;
Oleh V. Khodykin
;
Alexer N. Bykanov
;
Curtis L. Rettig
;
Jerzy R. Hoffman
;
Ernesto Vargas L
;
Rod D. Simmons
;
Juan A. Chavez
;
William F. Marx
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV source;
EUV lithography;
laser produced plasma;
high volume manufacturing;
9.
Marching to the beat of Moore's Law
机译:
迈向摩尔定律的步伐
作者:
Yan Borodovsky
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
10.
EUV testing of multilayer mirrors: critical issues
机译:
EUV多层镜测试:关键问题
作者:
S. B. Hill
;
I. Ermanoski
;
S. Grantham
;
C. Tarrio
;
T. B. Lucatorto
;
T. E. Madey
;
S. Bajt
;
M. Chhok
;
P. Yan
;
O. Wood
;
S. Wurm
;
N. V. Edwards
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
reflectometry;
EUV optics;
ruthenium films;
lifetime testing;
11.
Evaluation of Resolution and LER in the Resist Patterns Replicated by EUV Micro-exposure Tools
机译:
通过EUV微曝光工具复制的抗蚀剂图案中的分辨率和LER的评估
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Yuusuke Tanaka
;
Hiroaki Oizumi
;
Fumiaki Kumasaka
;
DooHoon Goo
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV;
chemically amplified resist;
resolution;
sensitivity;
LER;
HiNA;
MET;
12.
Evaluation of FIB and E-beam Repairs for Implementation on Step and Flash Imprint Lithography Templates
机译:
对FIB和电子束维修的评估,以实现阶梯式和Flash压印光刻模板
作者:
S. R. Young
;
W. J. Dauksher
;
K. J. Nordquist
;
E.S. Ainley
;
K. A. Gehoski
;
A. A. Graupera
;
M. H. Moriarty
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
S-FIL template repair;
imprint lithography;
photomask repair;
13.
Progress in LPP EUV Source Development at Osaka University
机译:
大阪大学LPP EUV源开发的进展
作者:
Noriaki Miyanaga
;
Hiroaki Nishimura
;
Shinsuke Fujioka
;
Tatsuya Aota
;
Shigeaki Uchida
;
Michiteru Yamaura
;
Yoshinori Shimada
;
Kazuhisa Hashimoto
;
Keiji Nagai
;
Takayoshi Norimatsu
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV source;
laser-produced plasmas;
plasma modeling;
targets;
YAG laser;
14.
Plasma-Assisted Cleaning by Electrostatics (PACE)
机译:
静电等离子体清洁(PACE)
作者:
W. M. Lytle
;
M. J. Neumann
;
D.N. Ruzic
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
15.
Simulation analysis of printability of scratch and bump defects in EUV lithography
机译:
EUV光刻中划痕和凸点缺陷的可印刷性的仿真分析
作者:
Minoru Sugawara
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
defect;
scratch;
printability;
16.
RIM-13: A high-resolution imaging tool for aerial image monitoring of patterned and blank EUV reticles
机译:
RIM-13:一种高分辨率成像工具,用于对图案化和空白的EUV标线进行航拍图像监控
作者:
M. Booth
;
A. Brunton
;
J. Cashmore
;
P. Elbourn
;
G. Elliner
;
M. Gower
;
J. Greuters
;
J. Hirsch
;
L. Kling
;
N. McEntee
;
P. Richards
;
V. Truffert
;
I. Wallhead
;
M. Whitfield
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
mask defect inspection;
aerial image monitoring;
metrology;
17.
Resolution improvement of EPL stencil mask using thin membrane
机译:
使用薄膜提高EPL模版掩模的分辨率
作者:
Hiroshi Sugimura
;
Hideyuki Eguchi
;
Masashi Norimoto
;
Yoshiyuki Negishi
;
Isao Yonekura
;
Kojiro Ito
;
Akira Tamura
;
Fumihiro Koba
;
Hiroshi Arimoto
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EPL;
stencil mask;
resolution;
membrane;
critical dimension;
sidewall angle;
image placement;
18.
The Role of Stress in Nanoimprint Lithography
机译:
应力在纳米压印光刻中的作用
作者:
Hyun Wook Ro
;
Yifu Ding
;
Hae-Jeong Lee
;
Daniel R. Hines
;
Ronald L. Jones
;
Eric K. Lin
;
Alamgir Karim
;
Wen-li Wu
;
Christopher L. Soles
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
nanoimprint lithography;
residual stress;
thickness;
pattern shape;
metrology;
X-ray reflectivity;
critical dimension small angle scattering;
19.
Technology mapping technique for throughput enhancement of character projection equipment
机译:
用于提高字符投影设备的吞吐量的技术映射技术
作者:
Makoto Sugihara
;
Taiga Takata
;
Kenta Nakamura
;
Ryoichi Inanami
;
Hiroaki Hayashi
;
Katsumi Kishimoto
;
Tetsuya Hasebe
;
Yukihiro Kawano
;
Yusuke Matsunaga
;
Kazuaki Murakami
;
Katsuya Okumura
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
maskless lithography;
character projection;
variable-shaped beam;
technology mapping;
throughput;
20.
Vapor Deposited Release Layers for Nanoimprint Lithography
机译:
纳米压印光刻的气相沉积释放层
作者:
Tong Zhang
;
Boris Kobrin
;
Mike Wanebo
;
Romek Nowak
;
Richard Yi
;
Jeff Chinn
;
Markus Bender
;
reas Fuchs
;
Martin Otto
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
nanotechnology;
nano-imprint lithography;
self-assembled monolayer;
anti-stiction;
vapor phase deposition;
release layer;
NIL;
21.
Defect Inspection of EUV Mask Blank Using Confocal Microscopy: Simulation and Experiment
机译:
共聚焦显微镜检查EUV口罩毛坯的缺陷:模拟和实验
作者:
Seong-Sue Kim
;
Jinhong Park
;
Roman Chalykh
;
Jiehun Kang
;
SukJoo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask blank;
defect inspection;
confocal microscopy;
simulation;
22.
Development status of EUV sources for use in Beta-tools and high-volume chip manufacturing tools
机译:
用于Beta工具和大批量芯片制造工具的EUV来源的开发状况
作者:
U. Stamm
;
J. Kleinschmidt
;
D. Bolshukhin
;
J. Brudermann
;
G. Hergenhan
;
V. Korobotchko
;
B. Nikolaus
;
M. C. Schuermann
;
G. Schriever
;
C. Ziener
;
V. M. Borisov
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV sources;
gas discharge produced plasma;
Z-pinch;
rotating disc electrode;
xenon;
tin;
EUV lithography;
23.
EUV imaging with a 13 nm tabletop laser reaches sub-38 nm spatial resolution
机译:
使用13 nm台式激光器的EUV成像可达到38 nm以下的空间分辨率
作者:
Georgiy Vaschenko
;
Ferno Brizuela
;
Courtney Brewer
;
Miguel A. Larotonda
;
Yong Wang
;
Bradley M. Luther
;
Mario C. Marconi
;
Jorge J. Rocca
;
Carmen S. Menoni
;
Weilun Chao
;
Erik H. erson
;
Yanwei Liu
;
David T. Attwood
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet imaging;
compact EUV lasers;
EUV microscopy;
24.
Defect Inspection for Imprint Lithography Using a Die to Database Electron Beam Verification System
机译:
使用模具到数据库电子束验证系统的压印光刻缺陷检查
作者:
L. Jeff Myron
;
Ecron Thompson
;
Ian McMackin
;
Douglas J. Resnick
;
Tadashi Kitamura
;
Toshiaki Hasebe
;
Shinichi Nakazawa
;
Toshifumi Tokumoto
;
Eric Ainley
;
Kevin Nordquist
;
William J. Dauksher
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
imprint;
lithography;
electron beam;
inspection;
die to database;
template;
25.
Design and optimization of collectors for extreme ultra-violet lithography
机译:
极紫外光刻的收集器设计与优化
作者:
Fabio E. Zocchi
;
Enrico Buratti
;
Valentino Rigato
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
collector;
collection efficiency;
extreme ultra-violet lithography;
far field uniformity;
26.
A Year in the Life of an Immersion Lithography Alpha Tool at Albany NanoTech
机译:
奥尔巴尼纳米技术公司的浸没式光刻Alpha工具使用寿命长达一年
作者:
Michael Tittnich
;
John Hartley
;
Greg Denbeaux
;
Uzo Okoroanyanwu
;
Harry Levinson
;
Karen Petrillo
;
Chris Robinson
;
Dario Gil
;
Dan Corliss
;
David Back
;
Stefan Brl
;
Christian Schwarz
;
Frank Goodwin
;
Yayi Wei
;
Brian Martinick
;
Richard Housley
;
Peter Benson
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
27.
Assessment of electron projection lithography mask membrane image placement accuracy due to fabrication processes
机译:
评估由于制造工艺而导致的电子投影光刻掩模膜图像放置精度
作者:
Michael J. Boruszewski
;
Roxann L. Engelstad
;
Gerald A. Dicks
;
Hiroshi Sakaue
;
Hiroshi Arimoto
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
electron projection lithography;
mask fabrication;
finite element analysis;
membrane distortions;
28.
Advanced Image Placement Performance for the Current EPL Masks
机译:
当前EPL遮罩的高级图像放置性能
作者:
Hideyuki Eguchi
;
Hiroshi Sugimura
;
Kaoru Koike
;
Hiroshi Sakaue
;
Hiroshi Arimoto
;
Kentaro Ogawa
;
Takashi Susa
;
Shinji Kunitani
;
Toshiaki Kurosu
;
Takashi Yoshii
;
Kojiro Itoh
;
Akira Tamura
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EPL;
stencil mask;
SOI;
image placement;
stress;
membrane;
correction;
electron beam;
process induced distortion;
electrostatic chuck;
29.
Characterizing Nanoimprint Pattern Cross-Section and Fidelity from X-ray Reflectivity
机译:
从X射线反射率表征纳米压印图案的横截面和保真度
作者:
Hae-Jeong Lee
;
Christopher L. Soles
;
Hyun Wook Ro
;
D. R. Hines
;
Ronald L. Jones
;
Eric K. Lin
;
Alamgir Karim
;
Wen-li Wu
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
nanoimprint lithography;
pattern fidelity;
x-ray reflectivity;
cross-section;
residual layer;
pattern profile;
30.
Compact source and beam delivery system for EUV radiation
机译:
紧凑的EUV辐射源和光束传输系统
作者:
Klaus Mann
;
Frank Barkusky
;
Armin Bayer
;
Christian Peth
;
Holger Toettger
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
schwarzschild objective;
EUV source;
EUV optics;
13.5 nm;
laser-induced plasma;
Mo/Si;
photo-ablation;
PMMA;
31.
Defect Printability Study using EUV Lithography
机译:
使用EUV光刻的缺陷可印刷性研究
作者:
Christian Holfeld
;
Karsten Bubke
;
Falk Lehmann
;
Bruno La Fontaine
;
Adam R. Pawloski
;
Siegfried Schwarzl
;
Frank-Michael Kamm
;
Thomas Graf
;
reas Erdmann
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
defect;
defect printability;
critical defect size;
resist resolution;
32.
High-Sensitivity Interferometric Schemes for ML2 Micromirror Calibrations
机译:
ML2微镜校准的高灵敏度干涉仪方案
作者:
Jen-Shiang Wang
;
Olav Solgaard
;
rew R. Neureuther
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
maskless lithography;
SLM;
calibration;
micromirror;
ML2;
33.
EUV generation using a droplet of a suspension including tin as a target of a high-efficiency LPP source for high volume production
机译:
使用包含锡的悬浮液液滴作为高效率LPP源的目标来产生EUV以进行大量生产
作者:
Toshihisa TOMIE
;
Sarjono
;
H.Yashiro
;
H.Moriwaki
;
I.Matsushima
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
suspension;
SnO_2;
laser-plasma;
cotton-cake like target;
particle-cluster;
conversion efficiency;
multi kHz;
long continuous operation;
34.
EUVL Mask Blanks: Recent Results on Substrates, Multilayers and the Dry Etch Process of TaN-Absorbers
机译:
EUVL掩模坯料:基材,多层膜和TaN吸收剂干法蚀刻工艺的最新结果
作者:
Holger Seitz
;
Markus Renno
;
Thomas Leutbecher
;
Nathalie Olschewski
;
Torsten Reichardt
;
Ronny Walter
;
Helmut Popp
;
Guenter Hess
;
Florian Letzkus
;
Joerg Butschke
;
Mathias Irmscher
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUVL;
mask blank;
multilayer;
absorber;
35.
NIL Template Manufacturing Using a Variable Shaped E-Beam Writer and a new pCAR
机译:
使用可变形状电子束书写器和新pCAR的NIL模板制造
作者:
Mathias Irmscher
;
Joerg Butschke
;
Guenter Hess
;
Corinna Koepernik
;
Florian Letzkus
;
Markus Renno
;
Holger Sailer
;
Hubert Schulz
;
Anatol Schwersenz
;
Ecron Thompson
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
chemically amplified resist;
nanoimprint;
template manufacturing;
e-beam lithography;
36.
Multi-scale modelling of nano-imprint lithography
机译:
纳米压印光刻技术的多尺度建模
作者:
David-A. Mendels
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
nano-imprint lithography;
finite elements multi-scale modelling;
load instrumented NIL;
nanorheology;
37.
Novel low thermal expansion material for EUV application
机译:
适用于EUV应用的新型低热膨胀材料
作者:
Mitsuhiro Kawata
;
Akira Takada
;
Hideaki Hayashi
;
Naoki Sugimoto
;
Shinya Kikugawa
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
low thermal expansion;
silica glass;
structural chemistry;
38.
EUV Sources for the Alpha-Tools
机译:
用于Alpha工具的EUV来源
作者:
Joseph Pankert
;
Rolf Apetz
;
Klaus Bergmann
;
Marcel Damen
;
Guenther Derra
;
Oliver Franken
;
Maurice Janssen
;
Jeroen Jonkers
;
Juergen Klein
;
Helmar Kraus
;
Thomas Kruecken
;
reas List
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV source;
gas discharge plasma;
tin;
EUV lithography;
halogen cycle;
39.
Effect of residual gas atmosphere on lifetime of Ru-capped EUVL projection optics mirror
机译:
残余气体气氛对Ru封顶EUVL投影光学镜寿命的影响
作者:
Yukinobu Kakutani
;
Masahito Niibe
;
Yoshio Gomei
;
Hiromitsu Takase
;
Shigeru Terashima
;
Shuichi Matsunari
;
Takashi Aoki
;
Katsuhiko Murakami
;
Yasuaki Fukuda
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUVL;
contamination;
multilayer mirror;
radiation damage;
reflectance;
40.
Nikon EUVL development progress summary
机译:
尼康EUVL开发进度摘要
作者:
Takaharu Miura
;
Katsuhiko Murakami
;
Kazuaki Suzuki
;
Yoshiaki Kohama
;
Yukiharu Ohkubo
;
Takeshi Asami
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUVL;
extreme ultra violet lithography;
EUV exposure tool;
EUV pre-production tool;
EUVA project;
41.
Photonic crystals from step and flash imprint lithography
机译:
步进和闪光压印光刻技术的光子晶体
作者:
J. Christopher Taylor
;
Tim Hostetler
;
Pavel Kornilovich
;
Ken Kramer
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
step and flash imprint lithography;
photonic crystals;
functional materials;
metal oxide nanoparticles;
42.
Schwarzschild-Objective-Based EUV Micro Exposure Tool
机译:
基于Schwarzschild-Objective的EUV微型曝光工具
作者:
Uwe Detlef Zeitner
;
Torsten Feigl
;
Tino Benkenstein
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV;
EUV lithography;
schwarzschild objective;
micro exposure tool;
EUV microscopy;
43.
Visible light point-diffraction interferometer for testing of EUVL optics
机译:
可见光点衍射干涉仪,用于测试EUVL光学器件
作者:
Seiji Takeuchi
;
Osamu Kakuchi
;
Kenji Yamazoe
;
Yoshio Gomei
;
Todd A. Decker
;
Michael A. Johnson
;
Donald W. Phillion
;
John S. Taylor
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
interferometer;
PDI;
EUV;
lithography;
wavefront;
44.
Development of CO_2 Laser Produced Xe Plasma EUV Light Source for Microlithography
机译:
用于微光刻的CO_2激光产生的Xe等离子体EUV光源的开发
作者:
Hakaru Mizoguchi
;
Akira Endo
;
Tatsuya Ariga
;
Taisuke Miura
;
Hideo Hoshino
;
Yoshifumi Ueno
;
Masaki Nakano
;
Hiroshi Komori
;
Akira Sumitani
;
Tamotsu Abe
;
Takashi Suganuma
;
Georg Soumagne
;
Hiroshi Someya
;
Yuichi Takabayashi
;
Koichi Toyoda
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV light source;
laser-produced plasma;
CO_2 laser;
Xe plasma;
droplet;
magnetic field;
45.
EUV Mask and Chuck Analysis - Simulation and Experimentation
机译:
EUV面罩和卡盘分析-仿真和实验
作者:
Madhura Nataraju
;
Jaewoong Sohn
;
rew R. Mikkelson
;
Kevin T. Turner
;
Roxann L. Engelstad
;
Chris K. Van Peski
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
electrostatic chucking experiments;
flatness specifications;
finite element analysis;
46.
EUV Lithography Simulation for the 32 nm Node
机译:
用于32 nm节点的EUV光刻模拟
作者:
Eun Jin Kim
;
Wook Chang
;
Jin Back Park
;
Sung Jin Kim
;
Jong Sun Kim
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
optimization;
32 nm node;
simulation;
47.
Demonstration of Phase-Shift Masks for Extreme-Ultraviolet Lithography
机译:
极紫外光刻的相移掩模演示
作者:
Bruno La Fontaine
;
Adam R. Pawloski
;
Obert Wood
;
Yunfei Deng
;
Harry J. Levinson
;
Patrick Naulleau
;
Paul E Denham
;
Eric Gullikson
;
Brian Hoef
;
Christian Holfeld
;
Christian Chovino
;
Florian Letzkus
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
phase-shift masks;
actinic characterization;
48.
Phase Defect Observation Using an EUV Microscope
机译:
使用EUV显微镜观察相缺陷
作者:
Kazuhiro Hamamoto
;
Yuzuru Tanaka
;
Takahiro Yoshizumi
;
Yasuyuki Fukushima
;
Hideaki Shiotani
;
Noriyuki Sakaya
;
Morio Hosoya
;
Tsutomu Shoki
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
EUV microscope;
mask;
defect;
49.
Application of a high-brightness electrodeless Z-pinch EUV source for metrology, inspection, and resist development
机译:
高亮度无电极Z夹EUV光源在计量,检查和抗蚀剂显影中的应用
作者:
Stephen F. Horne
;
Matthew M. Besen
;
Donald K. Smith
;
Paul A. Blackborow
;
Robert DAgostino
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
Z-pinch;
EUV source;
50.
Characterization of large off-axis EUV mirrors with high accuracy reflectometry at PTB
机译:
在PTB处使用高精度反射仪表征大型离轴EUV镜
作者:
Christian Laubis
;
Christian Buchholz
;
reas Fischer
;
Sven Ploeger
;
Frank Scholz
;
Heike Wagner
;
Frank Scholze
;
Gerhard Ulm
;
Hartmut Enkisch
;
Stephan Muellender
;
Marco Wedowski
;
Eric Louis
;
Erwin Zoethout
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
extreme ultraviolet;
metrology;
lithography;
at-wavelength characterization;
reflectometry;
synchrotron radiation;
51.
Building 1X NIL Templates: Challenges and Requirements
机译:
构建1X NIL模板:挑战和要求
作者:
Tony DiBiase
;
John Maltabes
;
Bryan Reese
;
Mohseri Ahmadian
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
关键词:
nano imprint;
template;
NIL;
1x mask making;
SFIL;
SFIL-R;
molecular imprints;
defect inspection;
52.
First performance results of the ASML alpha demo tool
机译:
ASML alpha演示工具的首个性能结果
作者:
Hans Meiling
;
Henk Meijer
;
Vadim Banine
;
Roel Moors
;
Rogier Groeneveld
;
Harm-JanVoorma
;
Uwe Mickan
;
Bas Wolschrijn
;
Bas Mertens
;
Gregor van Baars
;
Peter Kuerz
;
Noreen Harned
会议名称:
《Emerging Lithographic Technologies X pt.1》
|
2006年
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