首页> 外国专利> SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TRANSFER / TUNNEL TREATMENT SET-UP, IN WHICH THE FUNCTIONING OF IT IS UNINTERRUPTED, SEQUENCE OF THE FOLLOWING SEMICONDUCTOR TREATMENTS OF FOLLOWING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE DISTRIBUTED ON THE SAME TIME.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TRANSFER / TUNNEL TREATMENT SET-UP, IN WHICH THE FUNCTIONING OF IT IS UNINTERRUPTED, SEQUENCE OF THE FOLLOWING SEMICONDUCTOR TREATMENTS OF FOLLOWING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE DISTRIBUTED ON THE SAME TIME.

机译:在其功能不受干扰的情况下进行的半导体基材传输/隧道处理设置是在同一时间分布的以下半导体基材的后续处理顺序。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号NL1037062C2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BOK EDWARD;

    申请/专利号NL20091037062

  • 发明设计人 BOK EDWARD;

    申请日2009-06-23

  • 分类号H01L21;

  • 国家 NL

  • 入库时间 2022-08-21 18:05:14

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