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SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING PLANAR GATE AND TRENCH FIELD ELECTRODE STRUCTURE

机译:包含平面门和沟槽场电极结构的半导体器件

摘要

An embodiment of a semiconductor device includes a transistor cell array having transistor cells in a semiconductor body. A planar gate structure is on the semiconductor body at a first side. Field electrode trenches extend into the semiconductor body from the first side. Each of the field electrode trenches includes a field electrode structure. A depth d of the field electrode trenches is greater than a maximum lateral dimension wmax of the field electrode trenches at the first side.
机译:半导体器件的实施例包括在半导体主体中具有晶体管单元的晶体管单元阵列。平面栅极结构在第一侧上的半导体本体上。场电极沟槽从第一侧延伸到半导体本体中。每个场电极沟槽包括场电极结构。场电极沟槽的深度d大于第一侧处的场电极沟槽的最大横向尺寸wmax。

著录项

  • 公开/公告号US2016293714A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG;

    申请/专利号US201514672364

  • 申请日2015-03-30

  • 分类号H01L29/40;H01L29/423;H01L21/266;H01L29/78;H01L21/265;H01L29/66;H01L29/06;H01L29/36;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:34:03

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