机译:图案形成方法,图案,对有源射线敏感或对辐射敏感的树脂组合物,对有源射线敏感或对辐射敏感的膜,带有有源射线敏感或对辐射敏感的膜的坯料,制造光掩模的方法,照相,用于纳米印刷的模具的制造方法和用于纳米印刷的模具
公开/公告号WO2015178375A1
专利类型
公开/公告日2015-11-26
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;
申请/专利号WO2015JP64322
申请日2015-05-19
分类号G03F7/32;B29C59/02;C08F12/24;G03F7/039;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 14:20:30