机译:形成高电子迁移率半导体器件的方法及其结构
公开/公告号US9543291B2
专利类型
公开/公告日2017-01-10
原文格式PDF
申请/专利号US201614989370
申请日2016-01-06
分类号H01L27/06;H01L29/205;H01L29/78;H01L29/778;H01L29/423;H01L29/20;H01L23/31;H01L23/495;H01L29/66;H01L21/8252;H01L29/40;H01L29/417;H01L29/872;H01L29/10;
国家 US
入库时间 2022-08-21 13:41:09