首页> 外国专利> Method for manufacturing vapor deposition mask, metal plate used for producing vapor deposition mask, and vapor deposition mask

Method for manufacturing vapor deposition mask, metal plate used for producing vapor deposition mask, and vapor deposition mask

机译:蒸镀掩模的制造方法,用于蒸镀掩模的金属板及蒸镀掩模

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal plate capable of providing stably a resist pattern having a narrow width on a first surface or on a second surface.SOLUTION: A metal plate used for producing a vapor deposition mask includes a body layer comprising an iron alloy containing nickel, and at least one surface layer comprising copper or a copper alloy. At least one of a first surface and a second surface of the metal plate is constituted of the surface layer.SELECTED DRAWING: Figure 10
机译:解决的问题:提供一种能够在第一表面或第二表面上稳定地提供具有窄宽度的抗蚀剂图案的金属板。解决方案:用于制造气相沉积掩模的金属板包括包含铁的主体层。包含镍的合金,以及至少一个包含铜或铜合金的表面层。金属板的第一表面和第二表面中的至少一个由表面层构成。选定的图:图10

著录项

  • 公开/公告号JP6372755B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-08-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大日本印刷株式会社;

    申请/专利号JP20140261238

  • 发明设计人 太 田 貴 之;

    申请日2014-12-24

  • 分类号C23C14/04;H05B33/10;H01L51/50;C23F1;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:11:14

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号