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ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PURIFYING ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE

机译:有源射线敏感或辐射敏感组合物,纯化有源射线敏感或辐射敏感组合物的方法,生产有源射线敏感或辐射敏感组合物的方法,图案形成方法以及电子设备的制造方法

摘要

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition obtained from a method for purifying an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a method for producing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition contain a cation having a metal atom and a ligand, and have each of a content of sodium, a content of magnesium, and a content of iron of 50 ppm by mass or less with respect to the total solid content of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition. A pattern forming method includes the method for producing or purifying the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition. A method for producing an electronic device includes the pattern forming method.
机译:光化射线敏感或辐射敏感的组合物,以及从用于纯化光化射线敏感或辐射敏感的组合物的方法以及生产光化射线敏感或辐射的方法中获得的光化射线敏感或辐射敏感的组合物感光性组合物包含具有金属原子和配体的阳离子,且相对于光化性树脂的总固体成分,钠含量,镁含量和铁含量分别为50质量ppm以下。射线敏感或辐射敏感的组合物。图案形成方法包括用于生产或纯化光化射线敏感或辐射敏感组合物的方法。电子设备的制造方法包括图案形成方法。

著录项

  • 公开/公告号EP3435159A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-01-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;

    申请/专利号EP20170770061

  • 发明设计人 TSUBAKI HIDEAKI;NIHASHI WATARU;

    申请日2017-03-15

  • 分类号G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 12:26:01

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