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HEMT GaN device with a non-uniform lateral two dimensional electron gas profile and method of manufacturing the same

机译:具有不均匀的横向二维电子气轮廓的HEMT GaN器件及其制造方法

摘要

A high electron mobility field effect transistor (HEMT) having a substrate, a channel layer on the substrate and a barrier layer on the channel layer includes a stress inducing layer on the barrier layer, the stress inducing layer varying the piezo-electric effect in the barrier layer in a drift region between a gate and a drain. A two dimensional electron gas (2DEG) has a non-uniform lateral distribution in the drift region between the gate and the drain.
机译:具有衬底,衬底上的沟道层和沟道层上的阻挡层的高电子迁移率场效应晶体管(HEMT)包括在阻挡层上的应力感应层,该应力感应层改变了衬底中的压电效应。栅和漏之间的漂移区中的势垒层。二维电子气(2DEG)在栅极和漏极之间的漂移区域中具有不均匀的横向分布。

著录项

  • 公开/公告号US10192986B1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HRL LABORATORIES LLC;

    申请/专利号US201615005744

  • 申请日2016-01-25

  • 分类号H01L29/06;H01L29/78;H01L29/778;H01L29/10;H01L29/20;H01L29/205;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:09:58

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