机译:光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,光化射线敏感或辐射敏感的膜,包括光化射线敏感或辐射敏感的膜的掩模坯料,图案形成方法和电子设备的制造方法
公开/公告号US10545405B2
专利类型
公开/公告日2020-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;
申请/专利号US201715685499
申请日2017-08-24
分类号G03F7/038;G03F7/30;G03F1/50;G03F7/16;G03F7/20;
国家 US
入库时间 2022-08-21 11:26:29