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FinFET SRAM Cells With Dielectric Fins

机译:带介电鳍的FinFET SRAM单元

摘要

An SRAM cell includes: first, second, third, fourth, and fifth dielectric fins disposed in this order along a first direction and oriented lengthwise along a second direction, where the first and the fifth dielectric fins define two edges of the SRAM cell; a first N-type semiconductor fin disposed between the first and the second dielectric fins; a second N-type semiconductor fin disposed between the fourth and the fifth dielectric fins; a first P-type semiconductor fin disposed between the second and the third dielectric fins; a second P-type semiconductor fin disposed between the third and the fourth dielectric fins, where each of the first and the second N-type semiconductor fins and each of the first and the second P-type semiconductor fins is oriented lengthwise along the second direction; and gate structures oriented lengthwise along the first direction, where the gate structures engage one or more of the dielectric fin.
机译:一种SRAM单元,包括:第一,第二,第三,第四和第五介电鳍,该介电鳍沿第一方向依次设置并沿第二方向纵向取向,其中,所述第一和第五介电鳍限定了所述SRAM单元的两个边缘;以及第一N型半导体鳍片设置在第一和第二介电鳍片之间;第二N型半导体鳍片设置在第四和第五介电鳍片之间;第一P型半导体鳍片设置在第二和第三介电鳍片之间;第二P型半导体鳍片设置在第三和第四介电鳍片之间,其中第一和第二N型半导体鳍片中的每个以及第一和第二P型半导体鳍片中的每个沿着第二方向纵向取向;栅极结构沿第一方向纵向取向,其中栅极结构接合一个或多个介电鳍。

著录项

  • 公开/公告号US2020043935A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号US201816050702

  • 发明设计人 JHON JHY LIAW;

    申请日2018-07-31

  • 分类号H01L27/11;H01L29/78;H01L27/092;H01L27/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:18:54

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