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用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺

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一种光掩模具有一个用一条遮光带(11a/11b)实现的主图形(11)以及一个用半透明带(12a-12f)实现的副图形(12)，遮光带与半透明带的宽度相等，以致能使遮光带接近分辨率而不损坏副图形的效应。

著录项

公开/公告号CN1101057C

专利类型发明授权
公开/公告日2003-02-05

原文格式PDF
申请/专利权人日本电气株式会社;
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申请/专利号CN96106865.5
发明设计人桥本修一;笠间邦彦;
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申请日1996-06-28
分类号H01L21/027;
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人卢纪
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 08:55:50

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2005-08-31

专利权的终止未缴年费专利权终止

专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-08-31

专利权的终止未缴年费专利权终止

专利权的终止未缴年费专利权终止
2003-07-30

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030620 申请日:19960628

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2003-07-30

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030620 申请日:19960628

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2003-07-30

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20030620 申请日:19960628

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2003-02-05

授权

授权
2003-02-05

授权

授权
1999-08-04

发明专利公报更正更正卷:15 号:16 页码:64 更正项目:发明名称误:由半透明副图形辅助对主图形精确转换时对准器所用的光掩模及其制造工艺正:用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺申请日:19960628

发明专利公报更正
1999-08-04

发明专利公报更正更正卷:15 号:16 页码:64 更正项目:发明名称误:由半透明副图形辅助对主图形精确转换时对准器所用的光掩模及其制造工艺正:用副图形辅助主图形精确对准时光掩模及其制造工艺申请日:19960628

发明专利公报更正
1999-04-21

公开

公开
1999-04-21

公开

公开
1997-06-25

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
1997-06-25

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
1997-04-02

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
1997-04-02

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效

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