确定晶片对准标记外围辅助图形的方法及所用光刻胶掩模

摘要

本发明公开一种在晶片对准标记外围确定辅助图形的方法。首先，提供具有对准区的晶片，对准区中设置有一对准标记。然后，藉由一光刻胶掩模来进行曝光，以在对准区上的对准标记外围确定一第一辅助图形。此光刻胶掩模具有一第一辅助图形区，第一辅助图形区具有一第一图形来遮蔽该对准标记，及一第二图形来确定第一辅助图形。而且，此光刻胶掩模还包括一第二辅助图形区，具有一第三图形，用以在第一辅助图形的外围确定一第二辅助图形。