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杨智; 戴一帆; 颜树华;
国防科技大学,机电工程与自动化学院,长沙,410073;
空间光调制器; 灰度掩模; 工艺; 二元光学;
机译:使用二值灰度掩模的图案均质化来制作具有3D地形的微流体结构
机译:基于灰度掩模的非球面折射微透镜阵列的制作与建模
机译:纳米划痕硼硅酸盐表面的刻蚀掩模效应及其在无掩模图形制作中的应用
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:基于一步式无掩模灰度光刻技术制作具有任意表面轮廓的微光学元件
机译:采用a211灰度掩模的单次紫外曝光溶胶 - 凝胶薄膜的多级结构
机译:校正半导体电路的设计图形的方法,使用正确的设计图形数据制造的光电掩模,用于检查光电掩模的方法和用于检验光电掩模的生成图形数据的方法
机译:灰度成像掩模,用于灰度成像掩模的光学成像设备以及用于编码和使用灰度成像掩模的方法
机译:灰度成像掩模,用于灰度成像掩模的光学成像设备以及对掩模进行编码和使用掩模的方法
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