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用于浸润式微影的光阻材料及浸润式微影方法

摘要

本发明是有关于一种浸润式微影的方法及其光阻材料,其中此光阻材料包含聚合物、光酸产生剂以及抑制剂。聚合物与酸反应后,能溶解于碱性溶液中。光酸产生剂吸收辐射后,能分解形成酸。抑制剂能中和酸且流动性低。因此,此光阻材料能避免浸润式微影中的水纹缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN1940721B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200610152428.3

  • 发明设计人 张庆裕;

    申请日2006-09-29

  • 分类号

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁

  • 地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-05-25

    授权

    授权

  • 2007-05-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-04-04

    公开

    公开

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