首页> 中国专利> 氧化硅膜、其制备方法以及具有使用其的栅极绝缘膜的半导体器件

氧化硅膜、其制备方法以及具有使用其的栅极绝缘膜的半导体器件

摘要

本发明提供了一种作为栅极绝缘膜的高性能氧化硅膜并且提供一种具有半导体器件,所述的氧化硅膜和半导体器件具有优良的电特性。根据本发明的氧化硅膜在膜中包含CO2,其中,当红外吸收光谱中的峰的积分强度由(半高峰宽)×(峰高)表示时,相对于在波数1,060cm-1附近出现的SiO2-特征峰的积分强度,在波数2,340cm-1附近出现的CO2-特征峰的积分强度是8E-4倍以上。

著录项

  • 公开/公告号CN101315947B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NEC液晶技术株式会社;

    申请/专利号CN200810109584.0

  • 发明设计人 森茂;田边浩;田中淳;

    申请日2008-06-02

  • 分类号H01L29/51(20060101);H01L29/786(20060101);H01L21/316(20060101);H01L21/285(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人陈平

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-11-23

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 29/51 变更前: 变更后: 申请日:20080602

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-06-22

    授权

    授权

  • 2010-05-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/51 申请日:20080602

    实质审查的生效

  • 2008-12-03

    公开

    公开

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