公开/公告号CN101315947B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-06-22
原文格式PDF
申请/专利权人 NEC液晶技术株式会社;
申请/专利号CN200810109584.0
申请日2008-06-02
分类号H01L29/51(20060101);H01L29/786(20060101);H01L21/316(20060101);H01L21/285(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人陈平
地址 日本神奈川县
入库时间 2022-08-23 09:06:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-11-23
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 29/51 变更前: 变更后: 申请日:20080602
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2011-06-22
授权
授权
2010-05-26
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/51 申请日:20080602
实质审查的生效
2008-12-03
公开
公开
机译: 具有栅极绝缘膜的半导体器件的制造方法,该栅极绝缘膜包括具有界面绝缘膜的氮化硅膜
机译: 半导体器件MOSFET具有由氘原子含量的氮化硅膜和氧化硅膜组成的栅极绝缘膜
机译: 具有氧化硅和氮化硅膜的栅极绝缘膜的半导体器件