栅极氮化硅膜厚分布优化及产品性能的研究

摘要

氮化硅薄膜是一种重要的薄膜材料,具有优良的光电特性和物理性能,将在微电子、光电及薄膜晶体管等领域中有广泛的应用.本文采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)在1.8m×1.5m的基板上制备薄膜晶体管液晶显示器用的氮化硅薄膜.本文研究通过调整腔室电极间距(Spacing)来优化氮化硅薄膜的均匀性(Uniformity),以及优化后的氮化硅薄膜对产品的影响.