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III-V族氮化物系半导体衬底、其制造方法及III-V族氮化物系发光元件

摘要

本发明提供了即使衬底面内存在因晶体翘曲而产生晶体取向偏差的情况下,发光波长偏差仍然很小的III-V族氮化物系半导体衬底及其制造方法,以及发光波长的衬底面内均一性优良的III-V族氮化物系发光元件。本发明的III-V族氮化物系半导体衬底是由III-V族氮化物系半导体晶体构成的半导体衬底,衬底的正面保持生成态,衬底的背面研磨成平坦面,并且晶体的C轴相对于衬底的正面大致垂直或者仅以特定角度倾斜。在该III-V族氮化物系半导体衬底上形成由III-V族氮化物系半导体晶体构成的外延层,从而形成III-V族氮化物系发光元件。

著录项

  • 公开/公告号CN101009350B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立电线株式会社;

    申请/专利号CN200610151667.7

  • 发明设计人 柴田真佐知;

    申请日2006-09-11

  • 分类号H01L33/00(20060101);H01L21/20(20060101);C30B29/38(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人葛松生

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 33/00 授权公告日:20110202 终止日期:20140911 申请日:20060911

    专利权的终止

  • 2011-02-02

    授权

    授权

  • 2007-09-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-01

    公开

    公开

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