光掩模的制造方法以及光学接近度校正的修补方法

摘要

本发明提供一种光掩模的制造方法。首先，提供光掩模的图像数据，再对此图像数据进行光学接近度校正，然后对光学接近度校正后的图像数据进行工艺规则检查。当图像数据中有至少一个未通过工艺规则检查的失败图形时，仅对此失败图形进行一修补程序，以使其能通过工艺规则检查。之后，依照经过前述光学接近度校正及修补程序的图像数据来形成光掩模的图案。