漂洗和干燥半导体晶片的设备和方法

摘要

用于漂洗和干燥半导体晶片的设备包括漂洗浴槽、干燥浴槽和干燥室。漂洗浴槽和干燥浴槽通过浴槽隧道单元连接，防止在被从漂洗浴槽传送到干燥浴槽的同时半导体晶片暴露于空气。因此，防止在半导体晶片上形成水印。用于漂洗和干燥半导体晶片的方法包括在漂洗浴槽中漂洗晶片，通过隧道单元将晶片传送到干燥浴槽，防止半导体晶片暴露于空气，以及在干燥浴槽中处理晶片之后，将晶片传送到干燥室。