公开/公告号CN113551783B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 西安中科立德红外科技有限公司;
申请/专利号CN202111111053.7
申请日2021-09-23
分类号G01J5/20(20060101);G01J1/42(20060101);H01L31/0352(20060101);H01L31/0216(20140101);H01L31/111(20060101);H01L27/144(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人张娜;刘芳
地址 710117 陕西省西安市高新区毕原二路3000号硬科技企业社区8幢
入库时间 2022-08-23 12:58:33
机译: 一种用于产生具有氧化作用的沟槽结构的方法,一种用于制造集成半导体电路装置或芯片的方法,一种用于制造半导体元件的方法以及一种利用该方法的半导体集成电路器件,芯片,一种半导体器件的制造方法
机译: 溅射在工艺温度下扩散的成分,例如具有集成电路的金属化半导体芯片,交替混合具有最大所需次要成分浓度和纯主要成分目标的混合目标
机译: 半导体集成电路尖端/芯片的密封方式,工艺粘附半导体集成电路尖端/芯片