公开/公告号CN108666306B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-16
原文格式PDF
申请/专利权人 英属开曼群岛商錼创科技股份有限公司;
申请/专利号CN201710188511.4
申请日2017-03-27
分类号H01L25/075(20060101);H01L33/12(20100101);H01L33/22(20100101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人马雯雯;臧建明
地址 开曼群岛大开曼岛大展馆商业中心奥林德道西湾路802号邮政信箱32052KY1-1208
入库时间 2022-08-23 12:48:56
机译: 在图案化的晶圆基板上进行化学气相沉积(CVD)
机译: 图案化晶圆基板上钨膜的化学气相沉积(CVD)方法
机译: 在图案化的晶圆基板上进行化学气相沉积(CVD)