用于光刻的设备及清洁静电式掩模固定座的方法及设备

摘要

本公开提出一种用于光刻的设备，一种清洁一静电式掩模固定座的方法以及一种清洁一静电式掩模固定座的设备。用于清洁使用于一光刻系统内的静电式掩模固定座的设备，包括供应低压环境于静电式掩模固定座的一腔体，以及配置用于施加超音波至静电式掩模固定座的一超音波换能器。此设备还包括配置用于控制超音波换能器的控制器，以及一气流控制器。气流控制器配置用于使腔体加压或减压。