ASML发布最新沉浸式光刻设备可用于38nm存储器

摘要

ASML Holding NV近13在SEMICON West上发布其最新的沉浸式光刻设备Twinscan XT 1950i。尽管该设备与之前的同类产品同样采用1．35孔径（NA），然而该系统的分辨率从40nm改善至38nm，这能使芯片在面积上收益10％。