2010决胜年ASML主攻38nm、EUV设备

摘要

全球最大半导体微显影设备业者ASML表示：目前客户订单增加相当多，但主是来自半导体业者制程微缩而非产能扩充的需求，半导体业者仍持续微缩半导体制程，摩尔定律预料将持续延续。以目前ASML最先进的浸润式微显影机种来看，新一代的机种NXT1950i也已于2009年下半年出货，未来将快速增加出货，同时深紫外光（EUV）也至少囊括5套客户订单，对ASML来说2010年将是极重要的一年。