ASML，顧客に最先端露光技術を提供06年は23台の液浸装置を17社へ出荷試作用EUV装置もすでに3台の受注

摘要

過去十数年の間，半導体製造におけるリソグラフィのプロセスは，極端に複雑なものではなかったが，現在でははるかに複雑さが増してきている。そこに，ASMLは半導体製造用露光装置のサプライヤとして，最先端技術とマーケットシェアの双方において業界をリードしてきた。06年の業績は，売り上げ，純利益ともに過去最高を記録し，ワールドワイドのマーケットシェアは金額ベースで60％以上を獲得している。