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【24h】

EUVL国際会議,実用化を視野に入れた発表相次ぐ課題多い量産向けEUV装置も10年に一部出荷始まる一方,DPL対応ArF液浸露光装置は09年から出荷

机译:EUVL国际会议宣布以实际使用为目的,部分批量生产EUV设备以进行批量生产,这已经连续出现许多问题,而从2009年开始装运支持DPL的ArF浸没曝光设备

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摘要

EUVリソグラフィに関する国際会議「2008 rnIntemational EUVL Symposium」が,08年9月rn28日から10月1日まで,の4日間,米国カリフrnオルニア州レイクタホで開催。最新の技術・装置開rn発の成果が報告された。本稿では,同会議の主要トrnピックスを紹介する。また,露光装置メ一カ一大手rn3社の動向についてもまとめる。
机译:EUV光刻国际会议“ 2008 rnEUVL国际研讨会”将于2008年9月28日至2008年10月1日在美国Ornia的塔霍湖举行,为期四天。报告了最新的技术和设备开发结果。本文介绍了会议的主要内容。它还总结了三大曝光设备制造商的趋势。

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