ASML极紫外光EUV设备助台积电攻关10纳米以下工艺流程

摘要

半导体微影技术厂商艾司摩尔ASML新一代极紫外光EUV微影设备已正式量产，并接获台积电订单，预计2015年出货，为台积电工艺流程推进至10纳米以下，提供关键加工设备。