公开/公告号CN107393797B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-08
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申请/专利权人 朗姆研究公司;
申请/专利号CN201710122891.1
发明设计人 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫;
申请日2017-03-03
分类号H01J37/32(20060101);
代理机构31263 上海胜康律师事务所;
代理人樊英如;张华
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 11:56:17
机译: 诸如边缘环的部件包括具有高纯度SP3键的化学气相沉积(CVD)金刚石涂层,用于等离子体处理系统
机译: 等离子体处理系统的组成成员,例如边缘环具有包含sp3键的高纯度化学气相沉积(CVD)金刚石涂层
机译: 诸如等离子处理组件的边缘环,包括化学气相沉积(CVD)金刚石涂层和高纯度SP3键合