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包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环的部件

摘要

一种包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环的部件。一种用于等离子体处理系统的基座包括衬底支撑表面。环形边缘环围绕衬底支撑表面的周边布置。化学气相沉积(CVD)金刚石涂层布置在环形边缘环的暴露于等离子体的表面上。CVD金刚石涂层包括sp3键。金刚石涂层中的sp3键的纯度大于90%。

著录项

  • 公开/公告号CN107393797B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN201710122891.1

  • 发明设计人 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫;

    申请日2017-03-03

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31263 上海胜康律师事务所;

  • 代理人樊英如;张华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:56:17

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