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用于纳米级相变存储器单元的电极配置结构

摘要

本发明公开了一种用于纳米级相变存储器单元的电极配置结构,其中:电极配置结构包括上层电极材料层、中间相变材料层、下层电极材料层;上层电极材料层包括外环电极和内部源端电极,上层电极材料层和下层电极材料层为非对称上下电极结构,水平投影为相交关系。在同一个单元中,同时构造了两种电极配置方式,在高阻非晶化过程中,采用水平工作模式,显著降低等效阻值R,读取电流增大,便于进行正确读取;在低阻晶化过程中,采用垂直工作模式,增大了等效阻值R,减小了工作电流,避免大电流的隧穿,延长器件寿命;因此平衡了纳米级相变材料的两相阻值的悬殊差异,简化并统一了外部接入电路。

著录项

  • 公开/公告号CN110767802B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201910907575.4

  • 发明设计人 马平;童浩;缪向水;

    申请日2019-09-24

  • 分类号H01L45/00(20060101);

  • 代理机构42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人宋敏

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 11:34:26

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