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用于纳米级相变存储器单元的垂直电极配置结构

摘要

本发明公开了一种用于纳米级相变存储器单元的垂直电极配置结构,其中:垂直电极配置结构包括上层电极材料层、中间相变材料层、下层电极材料层;上层电极材料层和下层电极材料层为非对称上下电极结构,可进行源漏端交换;下层电极材料层的侧方、中间相变材料层的下方配置有绝缘介质保护层。对于低阻晶态,通过构造非对称的上下电极结构,相比较于正对垂直电极结构,增大了等效电阻R,减小了工作电流,避免大电流的隧穿,延长器件寿命。同时,非正对面积分量分流了串联通路电流,增大串联过程电流扩散,也使得工作电流减小,工作电流越小,亚稳态的晶相结构越不容易被击穿。

著录项

  • 公开/公告号CN110635030B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201910906709.0

  • 发明设计人 童浩;马平;缪向水;

    申请日2019-09-24

  • 分类号H01L45/00(20060101);

  • 代理机构42224 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人宋敏

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 12:34:21

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