抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置

摘要

本发明提供一种抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置，该修整方法包括：通过控制双面抛光装置的上抛光板和下抛光板形变，使得上抛光板和所述下抛光板之间的间距，从靠近旋转轴线至远离旋转轴线的方向上呈递增趋势；并通过安装于上抛光垫和下抛光垫之间的修整工具对上抛光垫和下抛光垫的表面进行修整，修整后的上抛光垫和下抛光垫之间具有理想的工作间隙，提高了双面抛光装置的抛光性能。并且，在修整抛光垫的过程中，只需控制上抛光板和下抛光板形变即可，无需借助其他载体的辅助，修整过程快速高效，且修整精度高。