化学机械抛光垫修整器的设计

摘要

本课题根据 CMP抛光特性以及抛光垫的影响因素, 设计了 CMP抛光垫金刚石在线修整装置.该修整装置主要包括： 电动机的选择、 螺旋传动部件设计、 箱体的设计、电机正反转等.用行程开关和接触器构成控制电路, 控制砂轮运动, 由电机的速度控制器调速.砂轮实现了旋转和直线往复的螺旋修整运动, 从而达到抛光垫表面全局修整.