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一种4H-SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管

摘要

本发明公开了一种4H‑SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管,包括依次层叠设置的P型集电极区,N型漂移区,N型的电流增强层,P型基体区,P型体接触区,N型发射区、发射极金属和集电极金属;还包括第一沟槽与第二沟槽,所述第一沟槽与第二沟槽自器件的上表面穿透P型基体区终止在N型漂移区内;所述第一沟槽内填充第一氧化层和第一多晶硅,所述第二沟槽内的第二多晶硅底部被重掺杂的P型区与N型漂移区隔开,侧面被第二氧化层与P型体接触区、P型基体区及N型漂移区隔开;所述的重掺杂屏蔽区通过第二多晶硅与发射极连接。本发明减小了4H‑SiC沟槽IGBT的栅氧底部拐角的电场强度,达到降低器件的正向导通压降以减小器件损耗的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN105845718B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN201610335266.0

  • 发明设计人 王颖;刘彦娟;曹菲;于成浩;

    申请日2016-05-19

  • 分类号

  • 代理机构杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人杜军

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街

  • 入库时间 2022-08-23 10:42:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-05

    授权

    授权

  • 2016-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/417 申请日:20160519

    实质审查的生效

  • 2016-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/417 申请日:20160519

    实质审查的生效

  • 2016-08-10

    公开

    公开

  • 2016-08-10

    公开

    公开

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