一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法

摘要

本发明公开了一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法，属于直写曝光机技术领域。本发明的光路系统包括多排DMD组件，每排上的曝光组件成直线排列，相邻两排曝光组件交错分布，每个曝光组件都对应在相邻排两个曝光组件的中间位置；所述的直写曝光光路系统和一次性直写曝光方法可以避免Y轴往复运动带来的误差，图形不变形，确保图形拼接精确，无需步进方向的X轴，大大减小设备尺寸，减轻设备重量，适应绝大多数PCB生产商的场地要求，Y轴不需要进行往复运动，省去绝大多数加减速时间，提高工作效率。