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具有穿透衬底的通孔的集成电路

摘要

一种穿透衬底的通孔(TSV)芯片(200),其包括多个TSV(216),TSV(216)包括外部介电套管(221)和内部金属芯(220)以及凸出的TSV末端(217),凸出的TSV末端端部(217)包括从TSV管芯出现的侧壁。横向于凸出的TSV末端的钝化层(231)在凸出的TSV末端的侧壁的一部分上。在凸出的TSV末端的远侧部分缺少钝化层,从而提供内部金属芯的暴露部分。TSV末端包括球状远侧末端端部(217(a)),其包括第一金属层(241)和第二金属层(242),第一金属层(241)包括除焊料之外的第一金属,并且第二金属层(242)包括覆盖暴露末端部分的除焊料之外的第二金属。球状远侧末端端部覆盖TSV侧壁的一部分并在外部介电套管的最顶表面上方,并具有比在球状远侧末端端部下面的凸出的TSV末端的横截面积大≥25%的最大横截面积。

著录项

  • 公开/公告号CN103109362B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德克萨斯仪器股份有限公司;

    申请/专利号CN201180043062.5

  • 发明设计人 J·A·韦斯特;Y-J·朴;

    申请日2011-09-13

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵蓉民

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2022-08-23 10:37:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-16

    授权

    授权

  • 2013-09-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/60 申请日:20110913

    实质审查的生效

  • 2013-09-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 申请日:20110913

    实质审查的生效

  • 2013-05-15

    公开

    公开

  • 2013-05-15

    公开

    公开

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