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光刻工艺热点的整合方法

摘要

本发明提供一种光刻工艺热点的整合方法,包括:提供具有多个光刻工艺热点的图形库;以所述光刻工艺热点为中心,截取每个所述光刻工艺热点对应图形的部分区域,形成初级热点图形库;定义整合规则,去除所述初级热点图形库中的相同图形或相近图形,将所述初级热点图形库整合成未压缩的中级热点图形库;定义压缩规则,设定约束条件、归类相似图形,将所述中级热点图形库压缩为高级热点图形库。本发明中,最终产生的压缩版高级热点图形库匹配精度不下降,热点无遗漏。此外,本发明能够将热点图形库中数以千万计的热点通过整合压缩,最终生成热点数量在千级以内的图形库,减少热点数量,便于热点的进一步有效管理。

著录项

  • 公开/公告号CN107422613B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201710757929.2

  • 发明设计人 朱忠华;王伟斌;

    申请日2017-08-29

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:24:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    授权

    授权

  • 2017-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20170829

    实质审查的生效

  • 2017-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170829

    实质审查的生效

  • 2017-12-01

    公开

    公开

  • 2017-12-01

    公开

    公开

  • 2017-12-01

    公开

    公开

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