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SPIE Advanced Lithography Conference
SPIE Advanced Lithography Conference
召开年:
2018
召开地:
San Jose(US)
出版时间:
-
会议文集:
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1.
Efficient full-chip SRAF placement using Machine Learning for best accuracy and improved consistency
机译:
使用机器学习进行高效的全芯片SRAF放置,以实现最佳准确性和更高的一致性
作者:
Shibing Wang
;
Stanislas Baron
;
Nishrin Kachwala
;
Chidam Kallingal
;
Dezheng Sun
;
Vincent Shu
;
Weichun Fong
;
Zero Li
;
Ahmad Elsaid
;
Jin-Wei Gao
;
Jing Su
;
Jung-Hoon Ser
;
Quan Zhang
;
Been-Der Chen
;
Rafael Howell
;
Stephen Hsu
;
Larry Luo
;
Yi Zou
;
Gary Zhang
;
Yen-Wen Lu
;
Yu Cao
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Sub-resolution assist feature (SRAF);
Lithography;
Continuous Transmission Mask (CTM);
process window;
process variation;
machine learning assisted SRAF;
2.
Mask-aligner Talbot lithography using a 193 nm CW light source
机译:
使用193 nm CW光源的掩模对准器Talbot光刻
作者:
Andreas Vetter
;
Raoul Kirner
;
Dmitrijs Opalevs
;
Matthias Scholz
;
Patrick Leisching
;
Toralf Scharf
;
Wilfried Noell
;
Carsten Rockstuhl
;
Reinhard Voelkel
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Diode lasers;
laser beam shaping;
UV lasers;
lithography;
nanostructure fabrication;
Talbot lithog-raphy;
3.
A novel method to fast fix the post OPC weak-points through Calibre eqDRC application
机译:
通过Calibre eqDRC应用程序快速修复后OPC弱点的新方法
作者:
YaDong Jin
;
Shizhi Lyu
;
ZeXi Deng
;
Cong Lu
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Key word: OPC Repair;
DRC;
eqDRC;
4.
Reduction in overlay error from mark asymmetry using simulation, ORION, and alignment models
机译:
使用仿真,ORION和对齐模型减少标记不对称引起的覆盖误差
作者:
Boris Menchtchikov
;
Robert Socha
;
Chumeng Zheng
;
Sudhar Raghunathan
;
Igor Aarts
;
Krishanu Shome
;
Jonathan Lee
;
Chris de Ruiter
;
Manouk Rijpstra
;
Henry Megens
;
Ralph Brinkhof
;
Floris Teeuwisse
;
Leendertjan Karssemeijer
;
Irina Lyulina
;
Chung-Tien Li
;
Jan Hermans
;
Philippe Leray
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
alignment;
overlay;
asymmetry;
5.
Model-assisted template extraction SRAF application to contact holes patterns in high-end flash memory device fabrication
机译:
模型辅助模板提取SRAF在高端闪存设备制造中的接触孔图案应用
作者:
Ahmed Seoud
;
Juhwan Kim
;
Yuansheng Ma
;
Srividya Jayaram
;
Le Hong
;
Gyu-Yeol Chae
;
Jeong-Woo Lee
;
Dae-Jin Park
;
Hyoung-Soon Yune
;
Se-Young Oh
;
Chan-Ha Park
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
sub-resolution assist feature;
model-based SRAF;
rule-based SRAF;
SRAF insertion;
SRAF recipe;
MATE SRAF;
model-assisted template extraction;
Decision Tree learning technique;
6.
Inverse Lithography Recipe Optimization Using Genetic Algorithm
机译:
基于遗传算法的反光刻工艺优化
作者:
Le Hong
;
Fan Jiang
;
Alexander Tritchkov
;
James Word
;
Dan Zhang
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Genetic algorithms;
Model-based SRAF;
EUV;
Inverse lithography;
Recipe optimization;
pxOPC;
7.
Rigorous ILT optimization for advanced patterning and design-process co-optimization
机译:
严格的ILT优化,可实现高级图案设计和设计过程协同优化
作者:
Kosta Selinidis
;
Bernd Kuechler
;
Howard Cai
;
Kyle Braam
;
Wolfgang Hoppe
;
Vitaly Domnenko
;
Amyn Poonawala
;
Guangming Xiao
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Lithography Simulation;
ILT;
Inverse Lithography;
Computational Lithography;
OPC;
Resist 3D;
8.
Prediction of lens heating induced aberration via particle filter in optical lithography
机译:
光刻中通过颗粒滤光片的透镜加热引起的像差预测
作者:
Yanjie Mao
;
Sikun Li
;
Gang Sun
;
Lifeng Duan
;
Weijie Shi
;
Yang Bu
;
Xiangzhao Wang
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
lithography;
lens heating effect;
thermal aberration;
particle filter;
9.
Advances in MOEMS Technologies for high quality imaging systems
机译:
用于高质量成像系统的MOEMS技术的进步
作者:
Harald Schenk
;
Michael Wagner
;
Jan Grahmann
;
Andre Merten
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
MEMS;
MOEMS;
scanner;
micro mirror;
micro scanner;
spatial light modulator;
micro mirror array;
marking;
engraving;
lithography;
LIDAR;
10.
Freeform mask optimization using advanced image based M3D inverse lithography and 3D-NAND full chip OPC application
机译:
使用基于高级图像的M3D反光刻和3D-NAND全芯片OPC应用进行自由形式的掩模优化
作者:
Yaobin Feng
;
Zhiyang Song
;
Moran Guo
;
Jun He
;
Longxia Guo
;
Gang Xu
;
Sam Liu
;
Jingjing Liu
;
Stephen Hsu
;
Austin Peng
;
Andy Yang
;
Rachit Gupta
;
Junvvei Lu
;
Victor Peng
;
Jun Wang
;
Xiaolong Shi
;
Leon Liu
;
Rafael Howell
;
Cuiping Zhang
;
Zero Li
;
Ning-ning Jia
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Inverse Lithography;
image based M3D;
Freeform Mask Optimization;
source mask optimization (SMO);
Pattern Recognition and Optimization (PRO);
advanced pattern correction;
OPC;
3D-NAND;
11.
Efficient level-set based mask optimization with a vector imaging model
机译:
具有矢量图像模型的基于有效水平集的蒙版优化
作者:
Yijiang Shen
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Microlithoraphy;
Photolithography;
Computational imaging;
Level set;
12.
Inverse Lithography OPC Correction with Multiple Patterning and Etch Awareness
机译:
具有多重图案和蚀刻意识的反光刻OPC校正
作者:
Heon Choi
;
Ayman Hamouda
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
13.
Enhancement of ArF immersion scanner system for advanced device node manufacturing
机译:
增强ArF浸没式扫描仪系统以实现先进的设备节点制造
作者:
Yujiro Hikida
;
Akira Hayakawa
;
Yoshihiro Teshima
;
Tomonori Dosho
;
Noriaki Kasai
;
Yasushi Yoda
;
Kazuo Masaki
;
Yuichi Shibazaki
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
14.
Tunable Bandwidth for Application-specific SAxP process enhancement
机译:
可调带宽,用于特定于应用的SAxP流程增强
作者:
Paolo Alagna
;
Will Conley
;
Greg Rechtsteiner
;
Kathleen Nafus
;
Serge Biesemans
;
Gian Francesco Lorusso
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
15.
Model-based correction for local stress-induced overlay errors
机译:
基于模型的局部应力引起的覆盖误差校正
作者:
Ian Stobert
;
Subramanian Krishnamurthy
;
Hongbo Shi
;
Scott Stiffler
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
OPC;
eDRAM;
stress;
overlay;
16.
Exploration of Resist Effect in Source Mask Optimization
机译:
源掩模优化中的抗性探索
作者:
Ao Chen
;
Yee Mei Foong
;
Jae Yeol Maeng
;
Nikhil Jain
;
Steven McDermott
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
source mask optimization;
photoresist;
OPC model;
compact resist model;
image log slope;
negative tone development;
17.
Overlay control for 7 nm technology node and beyond
机译:
7纳米及以上技术节点的叠加控制
作者:
Nyan Aung
;
Woong Jae Chung
;
Pavan Samudrala
;
Haiyong Gao
;
Wenle Gao
;
Darius Brown
;
Guanchen He
;
Bono Park
;
Michael Hsieh
;
Xueli Hao
;
Yen-Jen Chen
;
Yue Zhou
;
DeNeil Park
;
Karsten Gutjahr
;
Ian Krumanocker
;
Kevin Jock
;
Juan Manuel Gomez
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Overlay;
CPE;
Scanner;
Overlay Control;
Heating Control;
Baseline Control;
Feedforward;
Feedback;
In-direct Alignment;
APC control;
18.
The partial coherence modulation transfer function in testing lithography lens
机译:
光刻镜头测试中的部分相干调制传递函数
作者:
Jiun-Woei Huang
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
modulation transfer function;
partial coherence;
lithographic lens;
critical dimension;
wavefront error;
19.
Hot spot variability and lithography process window investigation by CDU improvement using CDC technique
机译:
利用CDC技术改进CDU进行热点变化和光刻工艺窗口研究
作者:
Thomas Thamm
;
Bernd Geh
;
Marija Djordjevic Kaufmann
;
Rolf Seltmann
;
Alia Bitensky
;
Martin Sczyrba
;
Aravind Narayana Samy
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
CDC;
Critical Dimension Uniformity (CDU);
hotspots;
reticle;
yield;
source blur;
logic device;
20.
In-resist pattern shift metrology
机译:
抗蚀剂模式转换计量
作者:
Anita Bouma
;
Bart Smeets
;
Lei Zhang
;
Thuy T. T. Vu
;
Maikel Goosen
;
Willem van Mierlo
;
Peter de Loijer
;
Wendy Liebregts
;
Bart Rijpers
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
pattern shift;
overlay;
lens aberrations;
extreme illumination;
21.
Co-optimization of Exposure Dose and Etch process for SAQP Pitch walk control
机译:
SAQP沥青行走控制的曝光剂量和蚀刻工艺的共同优化
作者:
Mark John Maslow
;
Vadim Timoshkov
;
Ton Kiers
;
Tae Kwon Jee
;
Liesbeth Reijnen
;
Kaushik Kumar
;
Marc Demand
;
Carlos Fonseca
;
Florin Cerbu
;
Guillaume Schelcher
;
Christophe Beral
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
SAQP;
Pitch walk;
Co-optimization;
22.
Optical design of objectives for reducing photolithography
机译:
用于减少光刻的物镜的光学设计
作者:
Dmitry N. Frolov
;
Olga A. Vinogradova
;
Vladimir N. Frolov
;
Pavel S. Vakulov
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Reducing photolithography;
Optical design and fabrication;
Lens objectives system design;
23.
The optical design of 3D ICs for smartphone and optro-electronics sensing module
机译:
智能手机和光电感应模块的3D IC的光学设计
作者:
Jiun-Woei Huang
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Smartphone;
Reflective optics;
3D IC;
large view of view;
distortion correction;
24.
Sub-micron lines patterning into silica using water developable chitosan bioresist films for eco-friendly positive tone e-beam and UV lithography
机译:
使用水可显影的壳聚糖生物抗蚀剂膜将亚微米线图案化为二氧化硅,用于环保型正性电子束和UV光刻
作者:
Mathieu Caillau
;
Celine Chevalier
;
Pierre Cremillieu
;
Thierry Delair
;
Olivier Soppera
;
Benjamin Leuschel
;
Cedric Ray
;
Christophe Moulin
;
Christian Jonin
;
Emmanuel Benichou
;
Pierre-Francois Brevet
;
Christelle Yeromonahos
;
Emmanuelle Laurenceau
;
Yann Chevolot
;
Jean-Louis Leclercq
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
chitosan;
riboflavin;
water developable resist;
biopolymer;
environmentally-friendly;
photolithography;
electron beam lithography;
etching;
green nanotechnology;
green-tech;
25.
SEM contour based metrology for microlens process studies in CMOS image sensor technologies
机译:
基于SEM轮廓的计量学,用于CMOS图像传感器技术中的微透镜工艺研究
作者:
Amine Lakcher
;
Alain Ostrovsky
;
Bertrand Le-Gratiet
;
Ludovic Berthier
;
Laurent Bidault
;
Julien Ducote
;
Clemence Jamin-Momet
;
Etienne Mortini
;
Maxime Besacier
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
image sensor;
CMOS;
CD-SEM;
contour;
metrology;
microlens;
lithography;
reflow;
26.
Deep learning assisted fast mask optimization
机译:
深度学习辅助的快速面罩优化
作者:
Song Lan
;
Jun Liu
;
Yumin Wang
;
Ke Zhao
;
Jiangwei Li
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
OPC;
ILT;
Deep Learning;
Deep Neural Networks;
DNN;
Mask Optimization;
Mask Topography Model;
27.
New open platform software for monitoring lithography process of semiconductor manufacturing
机译:
新型开放平台软件,用于监控半导体制造的光刻工艺
作者:
Yutaka Igarashi
;
Satoru Kikuchi
;
Levi Jordan
;
Kunihiko Abe
;
Yuji Minegishi
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Open platform;
monitoring;
lithography;
custom applications;
28.
Enabling proximity mask-aligner lithography with a 193 nm CW light source
机译:
使用193 nm CW光源启用接近掩模对准器光刻
作者:
Raoul Kirner
;
Andreas Vetter
;
Dmitrijs Opalevs
;
Matthias Scholz
;
Patrick Leisching
;
Toralf Scharf
;
Wilfried Noell
;
Carsten Rockstuhl
;
Reinhard Voelkel
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Diode lasers;
laser beam shaping;
frequency doubled lasers;
UV lasers;
lithography;
microstructure fabrication;
29.
Thread scheduling for GPU-based OPC simulation on multi-thread
机译:
用于基于GPU的多线程OPC仿真的线程调度
作者:
Heejun Lee
;
Sangwook Kim
;
Jisuk Hong
;
Sooryong Lee
;
Hwansoo Han
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
MBOPC;
thread scheduling;
GPU;
MBOPC runtime;
out of memory;
multi-thread;
GPU idle time;
peak memory usage;
30.
Line edge roughness reduction for 7nm metals
机译:
降低7nm金属的线边缘粗糙度
作者:
Zheng Chen
;
Steven McDermott
;
Christopher Ordonio
;
Ao Chen
;
Bradley Morgenfeld
;
Geng Han
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
line edge roughness;
self-aligned double patterning;
positive tone developer;
negative tone developer;
image log slope;
LER;
SADP;
PTD;
NTD;
ILS;
31.
Smart overlay metrology pairing adaptive deep learning with the physics-based models used by a lithographic apparatus
机译:
智能叠加计量学将自适应深度学习与光刻设备使用的基于物理的模型配对
作者:
Chan Hwang
;
Seung Yoon Lee
;
SeungHwa Oh
;
Emil Schmitt-Weaver
;
Jeonghyun Park
;
Daniel Park
;
Mohamed El Kodadi
;
Kaustuve Bhattacharyya
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
machine learning;
overlay;
clamped shape;
computational metrology;
neural networks;
deep learning;
32.
Constraint approaches for some Inverse Lithography problems with Pixel-based Mask
机译:
基于像素的蒙版的一些反光刻技术的约束方法
作者:
Sergey Kobelkov
;
Victoria Roizen
;
Sergei Rodin
;
Alexander Tritchkov
;
JiWan Han
;
Yuri Granik
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Inverse lithography;
Local printability enhancement;
Process window;
constraint minimization;
33.
A Novel Positive Tone Development Method for Defect Reduction in the Semiconductor 193 nm Immersion Lithography Process
机译:
在半导体193 nm浸没式光刻工艺中减少缺陷的新型正色调显影方法
作者:
Li Li
;
Tafsirul Islam
;
Xuan Liu
;
David Conklin
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Defect reduction;
193 immersion lithography;
positive tone development;
semiconductor fabrication;
34.
A novel processing platform for post tape out flows
机译:
一种新型的流片带输出处理平台
作者:
Hien T. Vu
;
Soohong Kim
;
James Word
;
Lynn Y. Cai
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
parallel processing;
distributed;
multithreaded;
scalability;
TAT;
runtime linearity;
PTO;
35.
A model-based approach for the scattering-bar printing avoidance
机译:
基于模型的避免散布印刷的方法
作者:
Yaojun Du
;
Liang Li
;
Jingjing Zhang
;
Feng Shao
;
Christian Zuniga
;
Yunfei Deng
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
|
2018年
关键词:
Scattering bar;
SRAF;
SPA;
model;
OPC;
printing;
process window;
error rate;
simulation plane;
36.
Evaluation of resist molds formed for fabricating micro-lens arrays and practicability of replicated epoxy resin lenses
机译:
评价用于制作微透镜阵列的抗蚀剂模具和复制环氧树脂透镜的实用性
作者:
Toshiyuki Horiuchi
;
Noa Kobayashi
;
Ryunosuke Sasaki
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
resist mold;
micro-lens array;
projection lithography;
defocus;
epoxy resin;
light spot;
ray trace;
37.
The Method of Optimizing Mask Parameters Suitable for Lithography Process
机译:
适用于光刻工艺的掩模参数优化方法
作者:
Jianfang He
;
Lisong Dong
;
Libin Zhang
;
Lijun Zhao
;
Yayi Wei
;
Tianchun Ye
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
mask thickness;
sidewall angle;
Source Mask Optimization (SMO);
process window;
38.
The illumination design of UV LED array for lithography
机译:
光刻用UV LED阵列的照明设计
作者:
Jiun-Woei Huang
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
UVLED;
3D printing;
divergent angle;
uniformity;
lithographic illumination design;
39.
Next generation ArF Laser technologies for multiple-patterning immersion lithography supporting leading edge processes
机译:
用于多图案浸没式光刻技术的下一代ArF激光技术,支持前沿工艺
作者:
Hirotaka Miyamoto
;
Hiroshi Furusato
;
Keisuke Ishida
;
Hiroaki Tsushima
;
Akihiko Kurosu
;
Hiroshi Tanaka
;
Takeshi Ohta
;
Satoru Bushida
;
Takashi Saito
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
E95 bandwidth stability;
High purity E95 bandwidth;
Tunable E95 bandwidth;
Lifetime extension;
Chamber;
Line narrowing module;
40.
OPC Model Accuracy Enhancement for Asymmetrical Layouts by Incorporating 2D Contour Extraction Methodology
机译:
通过结合2D轮廓提取方法提高OPC模型不对称布局的精度
作者:
Cheng-Huei Lin
;
Che-Ming Hu
;
Fred Lo
;
Elvis Yang
;
Ta-Hone Yang
;
K. C. Chen
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
optical proximity correction;
2D contour extraction;
41.
Cross-platform (NXE-NXT) machine-to-machine overlay matching supporting next node chip manufacturing
机译:
跨平台(NXE-NXT)的机器对机器重叠匹配支持下一节点芯片制造
作者:
Theo Thijssen
;
Marcel Beckers
;
Albert Mollema
;
Leon Levasier
;
Alexander Padi
;
Chia-Wei Hung
;
Hsiao-Lan Chen
;
Laurens van Bokhoven
;
Niels Lammers
;
Jean Philippe van Damme
;
Floris Teeuwisse
;
Robin Tijssen
;
Wilson Tzeng
;
Cathy Wang
;
Marcel Mastenbroek
;
Harald Vos
;
Ting-Ju Yueh
;
Miao-Chi Chen
;
Hsueh-Hung Wu
;
Shin-Rung Peng
;
Chun-Kuang Chen
;
L. J. Chen
;
Kevin Cheng
;
John Lin
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
Overlay matching;
EUV scanner;
immersion scanner;
machine-overlay;
on-product-overlay;
42.
Extremely long life excimer laser technology for multi-patterning lithography
机译:
极长寿命的准分子激光技术,用于多图案光刻
作者:
Yousuke Fujimaki
;
Makoto Tanaka
;
Takashi Itou
;
Hirotaka Miyamoto
;
Miwa Igarashi
;
Hiroaki Tsushima
;
Takeshi Asayama
;
Takahito Kumazaki
;
Akihiko Kurosu
;
Takeshi Ohta
;
Satoru Bushida
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
DUV light source;
ArF laser;
Photo Lithography;
long life modules;
43.
Improving 130 nm Node Patterning Using Inverse Lithography Techniques For An Analog Process
机译:
使用逆光刻技术改善模拟工艺的130 nm节点图案
作者:
Can Duan
;
Scott Jessen
;
David Ziger
;
Mizuki Watanabe
;
Steve Prins
;
Chi-Chien Ho
;
Jing Shu
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
Source mask optimization;
resolution enhancement technology;
process window;
depth of focus;
exposure latitude;
and mask enhancement error factor;
44.
Model Based Cell-Array OPC Development for Productivity improvement in Memory Device Fabrication
机译:
基于模型的单元阵列OPC开发,用于提高存储设备制造的生产率
作者:
Ahmed Seoud
;
Sherif Hany
;
Juhwan Kim
;
Jebum Yoon
;
Boram Jung
;
Sang-Jin Oh
;
Byoung-Sub Nam
;
Se-Young Oh
;
Chan-Ha Park
会议名称:
《SPIE Advanced Lithography Conference》
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2018年
关键词:
memory cell-array;
pattern-based approach;
OPC consistency;
OPC performance;
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