公开/公告号CN106463324B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司;
申请/专利号CN201680001356.4
发明设计人 弗拉迪米尔·纳戈尔尼;
申请日2016-03-17
分类号H01J37/32(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人杜诚;李春晖
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 10:24:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-11
授权
授权
2018-12-14
专利申请权的转移 IPC(主分类):H01J 37/32 登记生效日:20181127 变更前: 变更后: 申请日:20160317
专利申请权、专利权的转移
2018-12-14
专利申请权的转移 IPC(主分类):H01J 37/32 登记生效日:20181127 变更前: 变更后: 申请日:20160317
专利申请权、专利权的转移
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20160317
实质审查的生效
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20160317
实质审查的生效
2017-03-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160317
实质审查的生效
2017-02-22
公开
公开
2017-02-22
公开
公开
2017-02-22
公开
公开
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机译: 控制等离子体处理室中蚀刻过程的方位角均匀性
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