图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、电子器件的制造方法以及电子器件

摘要

提供一种图案形成方法，其包括：(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤；(ii)将膜曝光的步骤；以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤，其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物，(C)溶剂，以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF₃部分结构的重复单元的树脂。