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レジスト溝内での金ナノ粒子パーコレーション接続を利用した単一電子素子作製方法

机译:在抗蚀剂凹槽​​中使用金纳米粒子渗滤连接的单电子器件制造方法

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摘要

レジスト溝内に金ナノ粒子 (Au NP) をほぼ一定間隔で配置する方法が報告されている。また、我々は数百nmのギャップで隔てられた電極間でのAu NPパーコレーション接続に関する研究を行ってきた。これらを単一電子素子作製プロセスの視点から見た、前者についてはAu NP間の電気的接続ができないこと、後者についてはAu NPの並列接続が多数含まれることが課題として挙げられる。本研究では、これらの2つの方法とAu NPの2段階散布を組み合わせることで、上記課題の解決を図った単一電子素子の作製プロセスを提案する。
机译:已经报道了以几乎规则的间隔在抗蚀剂凹槽​​中布置金纳米颗粒(Au NP)的方法。我们还一直在研究被几百纳米的间隙隔开的电极之间的金纳米管渗滤连接。从单电子器件制造工艺的角度来看,问题在于前者不能在Au NP之间进行电连接,而后者涉及许多Au NP并联。在这项研究中,我们提出了一种单电子器件的制造工艺,通过结合这两种方法和两步喷涂Au NP解决了上述问题。

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