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非易失性半导体存储单元结构及其制作方法

摘要

一种非易失性半导体存储单元结构及其制作方法,提供一基底,于基底中形成一浅第一型阱、一第二型阱以及一深第一型阱。接着在基底上形成堆栈栅。之后再形成源极与漏极。其中,源极的分布深度贯穿浅第一型阱并与第二型阱相连接,而漏极位于浅第一型阱表面处,且源极与漏极皆为第二型掺杂。

著录项

  • 公开/公告号CN1302555C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 力晶半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN01134833.X

  • 发明设计人 杨青松;沈士杰;徐清祥;

    申请日2001-11-15

  • 分类号H01L27/112(20060101);H01L21/8246(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾新竹科学工业园区力行-路12号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-01-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/112 授权公告日:20070228 终止日期:20091215 申请日:20011115

    专利权的终止

  • 2011-01-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/112 授权公告日:20070228 终止日期:20091215 申请日:20011115

    专利权的终止

  • 2007-02-28

    授权

    授权

  • 2007-02-28

    授权

    授权

  • 2005-03-16

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20050218 申请日:20011115

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2005-03-16

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20050218 申请日:20011115

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2005-03-16

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20050218 申请日:20011115

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2004-12-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-12-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-05-28

    公开

    公开

  • 2003-05-28

    公开

    公开

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